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佐伯 正克; 立川 圓造
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 50(7), p.1762 - 1766, 1977/07
被引用回数:1Xe(EC)I反応で生ずるIのメタンとの反応を調べた。CHIの生成にはI、OあるいはSFのような電子捕捉剤が重要な役割を果すことが明らかとなった。CHIの収率は反応系に添加するXeの濃度に著しく依存し、Xeの濃度の増加に従って減少した。Kr、Ar、NおよびOなどを添加することにより、微量のI存在下でのCHIの収率は、8.76.7%がホットアトム反応に、35.88.0%がD状態のIイオンに、31.5I2.0%がP状態のIイオンによって生じていることが分った。この結果を異なった励起過程で生じたIイオンとメタンの反応について報告されている結果と比較し、CHIの生成機構を提案した。
佐伯 正克; 立川 圓造
日本原子力学会誌, 19(5), p.332 - 339, 1977/05
被引用回数:2線量率5.310~1.910R/hの線照射下で、Xeの電子捕獲反応で生ずるIイオンとメタンの反応を調べた。線量率の異なる位置で一定時間反応させた場合、見掛けのCHIの収率は高線量率下における方が低くなる。しかし照射時間を変えて実験した結果から、線照射下でのCHIの収率は照射線量にのみ依存することが明らかとなった。Xeが完全に壊変するまで線照射を続けると、生成物収率は平衡値に達する。外部線を照射せずに反応を終了させた後、線照射を行っても610R以上の照射線量で主成物収率はほぼ同じ平衡値に達する。この平衡値は反応系に依存し、O添加系ではCHIが約2%であった。SF添加系ではCHIの他に、メタンの放出線分解生成物とのラジカル反応によりCHI等を生ずる。平衡収率はCHIおよびCHI共に約10%であった。